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    光刻電子混合氣

    世源氣體 www.51qiti.com  更新時間:2018-5-30 17:21:40
    氟化氬 Argon Fluoride Gas Mixtures  ArF
    氟化氬混合氣體應用于193nm光刻工藝中,通常與其它惰性氣體混合物結合使用
     
    氬氖 Argon Neon Gas Mixtures ArNe
    氬氖混合氣體應用于193nm光刻工藝中,通常與鹵素混合氣體結合使用
     
    氟化氪 Argon Neon Gas Mixtures ArNe
    氟化氪混合氣體應用于248nm光刻工藝中,通常與惰性氣體混合物結合使用
     
    氪氖混合氣體應用于248nm光刻工藝中,通常與鹵素混合氣體混合使用。

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